和周波発生(SFG)分光測定装置

和周波発生(Sum Frequency Generation)分光は、対象となる試料に波長の異なる2つの短パルスレーザー光（VIS,IR）を照射したときに、異なる媒体が接する境界面だけから発生する特異的な光を利用した、表面・界面の分子の挙動を選択的に観ることのできる唯一の分光学的手法です。

親水性や撥水性、摩擦、接着・剥離、表面改質、生体分子相互作用、分子吸着、電気化学、液体界面等、表面や界面で起こるいろいろな現象が測定できます。

本装置は、高繰返しフェムト秒レーザーを採用することにより、従来1スペクトルを測定するのに数10分要していた測定が、数秒で測定できる次世代和周波分光計測装置です。またヒューストン大学でSFG顕微鏡に応用された圧縮センシング法により短時間でのイメージング測定が可能です。

本装置は千葉大学・宮前教授およびヒューストン大学・Baldelli教授をはじめとするユーザーのアドバイスを基に独自開発しました。

■ 参考データ

・1スペクトルを数秒で測定可能
・ハイパースペクトルイメージング測定可能

■ 基本仕様