高出力産業用フェムト秒レーザー　FemtoLux 30

FemtoLux 30は革新的な直接冷媒方式を採用し、冷却水不要の完全空冷式のレーザーです。冷却水不要によりメンテナンスの手間がかからず、また小型化・軽量化も達成し、省スペースで設置が可能です。

ディスプレイや電子機器・電子部品の製造、ガラス、サファイア、セラミックなどの脆性材料の微細加工・マーキングおよび様々な金属やポリマーの最高品質の微罪加工用に最適です。

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■ パフォーマンス

・平均出力：30W @ 1030 nm 、（11 W @ 515 nm：オプション）
・最大出力エネルギー：90 μJ @ 1030 nm （50 μJ @ 515nm：オプション）
・MHz、GHzバーストモード
・250 μJ/バースト
・パルス幅（可変）：350 fs ～ 1 ps
・繰り返し周波数：シングルショット ～ 4 MHz
・乾式冷却

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■ 主な用途
・LCD、LED、OLEDの穴あけ、切断、リペア
・電子機器・電子部品製造
・様々なポリマー類 ・金属類の微細加工
・ガラス、サファイア、セラミックの微細加工

■ 仕様：FemtoLux30

1)： 継続的な改善のため、すべての仕様は予告なく変更される場合があります。
　「typical」とマークされたパラメータは仕様ではありません。
2)： 分周器をすべてのパルスを通るように設定した場合。搭載されたAOMで完全制御。
3)： 繰り返し周波数200kHzの場合。
4)： 一定の環境下でウォームアップ後、100時間以上で測定。
5)： 一定の環境下で測定。
6)： PRR＞500kHzの場合。PRP<500kHzの場合、最短パルス幅は<400fs。

■ GHzバーストオプション

1)： ご要望に応じてカスタムなバース内繰り返し周波数が可能です。
2)： バース内繰り返し周波数に依存します。
3)： 詳細については、メーカー問い合わせ。