製品情報
フェムト秒レーザー用可変アッテネーター 990-0072シリーズ
製品詳細
分野
- 装置開発
- その他
メーカー
EKSMA Optics（リトアニア）
正規代理店概要
この可変アッテネーターは、s偏光を反射しながらp偏光を透過する直径50.8 mmのUVFS薄膜ブリュースター型偏光子と、入射直線偏光レーザービーム内に配置された、直径25.4 mmの石英ゼロオーダーλ/2波長板 (オプティカルコンタクト) またはゼロオーダーλ/2波長板(エアスペース)で構成されています。
2 つの分離された異なる偏光ビームの強度比は、波長板を回転させることにより、他のビームパラメータを変更することなく連続的に変化させることができます。いずれかの出射ビームの強度、またはその強度比は、広いダイナミックレンジにわたって制御できます。
特長
・対応波長 266 ～ 1050 nm (複数モデル)
・消光比 1:200
・開口部 Φ22 mm
・広いダイナミックレンジ
・レーザービームを68°の角度で2つのビームに分割、手動で強度比調整可能
・透過ビームシフト ~1 mm
・高いダメージ閾値
仕様
| 型名 | 動作波長 | レーザーダメージ閾値 | |
|---|---|---|---|
| For Nd:YAG Laser Pulses | |||
| 990-0072-355 | 355 nm | 5 J/cm², 10 ns pulses, 10 Hz, 1064 nm | |
| 990-0072-532 | 532 nm | 5 J/cm², 10 ns pulses, 10 Hz, 1064 nm | |
| 990-0072-1064 | 1064 nm | 5 J/cm², 10 ns pulses, 10 Hz, 1064 nm | |
| For Femtosecond Laser Pulses | |||
| 990-0072-266 | 266 nm | > 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm | |
| 990-0072-343 | 343 nm | > 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm | |
| 990-0072-400 | 400 nm | > 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm | |
| 990-0072-515 | 515 nm | > 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm | |
| 990-0072-800 | 800 nm | > 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm | |
| 990-0072-800B | 780-820 nm | > 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm | |
| 990-0072-1030 | 1030 nm | > 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm | |
| 990-0072-1030B | 1010-1050 nm | > 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm | |
| For High Power Laser Applications | |||
| 990-0072-266H | 266 nm | > 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm | |
| 990-0072-343H | 343 nm | > 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm | |
| 990-0072-400H | 400 nm | > 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm | |
| 990-0072-515H | 515 nm | > 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm | |
| 990-0072-800H | 800 nm | > 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm | |
| 990-0072-800HB | 780-820 nm | > 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm | |
| 990-0072-1030H | 1030 nm | > 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm | |
| 990-0072-1030HB | 1010-1050 nm | > 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm | |
| 仕様 | |
|---|---|
| For Nd:YAG Laser Applications | |
| Aperture diameter | 22 mm |
| Damage threshold | 5 J/cm2 pulsed at 1064 nm, typical |
| Polarization Contrast | >1:200 |
| For Femtosecond Applications | |
| Aperture diameter | 22 mm |
| Damage threshold for high power laser applications: | >10 mJ/cm2, 50 fs pulse at 800 nm, typical |
| >100 mJ/cm2, 50 fs pulse at 800 nm, typical | |
| Time dispersion | t<4 fs for 100 fs Ti:Sapphire laser pulses |
| Polarization Contrast | >1:200 |
各資料
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03-6659-7541
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