プラズマ
製品一覧
ワイドレンジ&高分解能分光システム
高広帯域かつ高分解能測定が可能なコンパクトエッシェル分光器
広帯域測定 450~1030nm(RS10 k)、950~1650 nm(RS15 k) | 数十pmレベルの高波長分解能
コンパクト、ポータブル
小型分光器 ASP-75
フリースペース入射とファイバー入射の両方に対応可能な小型分光器
波長範囲 : 190 ~ 1100 nm | 波長分解能 : 最高0.05 nm
軽量・コンパクト | フリースペース、ファイバー入射可能
ファイバー小型分光器 (標準モデル)
低価格・高コストパフォーマンスのファイバー入射型の小型分光器
波長範囲 : 190 ~ 1100 nm | 波長分解能 : 最高0.2 nm (HWHM)
小型・堅牢 | 短納期
ファイバー小型分光器 (高波長分解能モデル)
輝線測定などの高波長分解能測定のために設計されたファイバー入射型の小型分光器
波長範囲 : 200 ~ 1100 nm | 波長分解能 : 最高0.04 nm (HWHM)
小型・堅牢 | 短納期
高性能分光器 MSシリーズ
ツェルニターナ型を採用した高スループット・高分解能の高性能分光器
焦点距離 20、35、52、75 cm | 非点収差を抑えたイメージングモデルあり
グレーティング 最大4枚搭載可能 | 出射ポート 最大2
2チャンネルイメージング分光器 NP250-2
上下2段に異なるグレーティングを搭載した2つの独立したスペクトルチャンネルを持つ分光器
独立駆動の2段グレーティング | 2つの独立したスペクトルチャンネル
幅広い波長域と高波長分解能の同時測定可能 | 出射ポート 2
高性能ダブル分散分光器 MSDD1000
高波長分解能・低迷光・高F値を誇る高性能ダブル分散分光器
焦点距離 2×500 mm | 非点収差を抑えたイメージングモデルあり
グレーティング 最大4枚(2×2ペア)同時搭載可能 | 低迷光
広帯域・狭線幅 Ti:サファイアレーザー TiC
様々な基礎研究 特に分光用途に最適
波長 : 700-1000 nm | 出力 : 1.8 W@800 nm | 線幅 : 最大2GHz
励起レーザー内蔵 | 波長制御 : 自動
フェムト秒Erファイバーレーザー
レーザー分光やテラヘルツ発生に最適
波長 : 1560 nm +/- 10 nm | パルス幅 : <80 fs (EFO-80/10) | 出力 : ~2W (EFOS-300/200)
高調波発生可 | 近赤外用スーパーコンティニューム発生モデル有
マルチTW数サイクルOPCPAレーザー UltraFlux Custom
マルチTW数サイクルOPCPAレーザー
最大ピークパワー:15 TW | 最大平均出力:120 W | CEP安定性:250 mrad
パルス幅:sub-8 fs | 自己診断システムによるハンドフリーオペレーション
高エネルギーランプ励起Q-スイッチナノ秒Nd:YAGレーザー NL300シリーズ
コンパクトかつ高エネルギー(最大エネルギー1100 mJ)Nd:YAGレーザー
最大エネルギー:1100 mJ @1064 nm |パルス幅: 3-6 ns |最大繰り返し周波数:20 Hz
高調波発生オプション有(第二、第三、第四、第五高調波)
シングルモード高エネルギーQ-スイッチナノ秒Nd:YAGレーザー ANL SLMシリーズ
光学部品のテストに最適なシングルモード高エネルギーQ-スイッチNd:YAGレーザー
最大エネルギー:10 J @1064 nm |パルス幅: 2 – 25 ns (標準:2 ns)
繰り返し周波数:10 Hz | 高調波発生オプション有(第二、第三、第四高調波)
マルチモード高エネルギーQ-スイッチNd:YAGレーザー ANL MMシリーズ
励起レーザーとして最適なマルチモード高エネルギーQ-スイッチNd:YAGレーザー
最大エネルギー:10 J @1064 nm |パルス幅:5 ns | 繰り返し周波数:10 Hz
高調波発生オプション有(第二、第三、第四高調波)
ハイエナジーNd:Glassナノ秒レーザー ANL Nd:Glassシリーズ
各種励起光源、プラズマ物理学、衝撃物理学に最適
最大パルスエネルギー:160 J @ 1064 nm | パルス幅:(可変) 0.15 – 20 ns & 波形制御
オプション:高調波発生(第二、第三)、フロントエンド選択可
高出力LD励起ナノ秒増幅システム ANL HPシリーズ
高繰り返し高エネルギーLD励起ナノ秒増幅システム
パルスエネルギー:2 J @100 Hz, 200 mJ @ 1 kHz(1064 nm)|パルス幅:5 ns
オプション:高調波発生(第二、第三高調波)、任意のパルス波形発生(1-50 ns)
パルス波形/幅任意制御高エネルギーNd:YAGレーザー ANL AWGシリーズ
OPCPA励起、レーザーピーニングに最適
最大パルスエネルギー:10 J @ 1064 nm | パルス幅:(可変) 1 – 20 ns & 波形制御
オプション:高調波発生(第二、第三)、パルス幅可変範囲拡張(0.15 – 500 ns)
高エネルギーフラッシュランプ励起ピコ秒増幅器 APL HEシリーズ
OPCPA、OPG、OPA励起に最適な増幅器
最大エネルギー:2.2 J@1064 nm | パルス幅:90 ± 10 ps | 繰り返し周波数:10 Hz
オプション:高調波発生、パルス幅の仕様変更 (20 – 300 ps)
高繰り返しLD励起ピコ秒増幅器 APL HPシリーズ
様々な分光測定、リモートセンシングに最適な増幅器
最大繰り返し周波数:1 kHz | パルス幅:90±10 ps | 最大エネルギー:14mJ@1064nm
オプション:高調波発生、パルス幅の仕様変更(20-300 ps)、繰り返し周波数2 kHz
高パルスエネルギー色素レーザー LiopStar
LIF、フォトリシス、燃焼アプリケーションに最適
波長範囲 : 197 nm ~ 5 μm | 波長分解能 : <0.03 cm-1@570 nm
SHG、THG、DFMオプション有
高繰返し色素レーザー LiopStar-HQ
最高100kHzの高繰返しに対応、燃焼アプリケーションに最適
波長範囲 : 430~900 nm | 波長分解能 : <0.06 cm-1@570 nm
高調波オプションあり
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