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プラズマ

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ワイドレンジ&高分解能分光システム

高広帯域かつ高分解能測定が可能なコンパクトエッシェル分光器
広帯域測定 450~1030nm(RS10 k)、950~1650 nm(RS15 k)  | 数十pmレベルの高波長分解能 
コンパクト、ポータブル

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小型分光器 ASP-75

フリースペース入射とファイバー入射の両方に対応可能な小型分光器
波長範囲 : 190 1100 nm | 波長分解能 : 最高0.05 nm
軽量・コンパクト | フリースペース、ファイバー入射可能

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ファイバー小型分光器 (標準モデル)

低価格・高コストパフォーマンスのファイバー入射型の小型分光器
波長範囲 : 190 1100 nm | 波長分解能 : 最高0.2 nm (HWHM)
小型・堅牢 | 短納期

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ファイバー小型分光器 (高波長分解能モデル)

輝線測定などの高波長分解能測定のために設計されたファイバー入射型の小型分光器
波長範囲 : 200 1100 nm | 波長分解能 : 最高0.04 nm (HWHM)
小型・堅牢 | 短納期

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高性能分光器 MSシリーズ

ツェルニターナ型を採用した高スループット・高分解能の高性能分光器
焦点距離 20355275 cm | 非点収差を抑えたイメージングモデルあり
グレーティング 最大4枚搭載可能 | 出射ポート 最大2

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2チャンネルイメージング分光器 NP250-2

上下2段に異なるグレーティングを搭載した2つの独立したスペクトルチャンネルを持つ分光器
独立駆動の2段グレーティング | 2つの独立したスペクトルチャンネル
幅広い波長域と高波長分解能の同時測定可能 | 出射ポート 2

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高性能ダブル分散分光器 MSDD1000

高波長分解能・低迷光・高F値を誇る高性能ダブル分散分光器
焦点距離 2×500 mm | 非点収差を抑えたイメージングモデルあり
グレーティング 最大4(2×2ペア)同時搭載可能 | 低迷光

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広帯域・狭線幅 Ti:サファイアレーザー TiC

様々な基礎研究 特に分光用途に最適
波長 : 700-1000 nm | 出力 : 1.8 W@800 nm | 線幅 : 最大2GHz
励起レーザー内蔵 | 波長制御 : 自動

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フェムト秒Erファイバーレーザー

フェムト秒Er:Dopedファイバーレーザー EFOシリーズ

レーザー分光やテラヘルツ発生に最適
波長 : 1560 nm +/- 10 nm | パルス幅 : <80 fs (EFO-80/10) | 出力 : ~2W (EFOS-300/200)
高調波発生可 | 近赤外用スーパーコンティニューム発生モデル有

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マルチTW数サイクルOPCPAレーザー UltraFlux Custom

マルチTW数サイクルOPCPAレーザー
最大ピークパワー:15 TW | 最大平均出力:120 W | CEP安定性:250 mrad
パルス幅:sub-8 fs | 自己診断システムによるハンドフリーオペレーション

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高エネルギーランプ励起Q-スイッチナノ秒Nd:YAGレーザー NL300シリーズ

コンパクトかつ高エネルギー(最大エネルギー1100 mJ)Nd:YAGレーザー
最大エネルギー:1100 mJ @1064 nm |パルス幅: 3-6 ns |最大繰り返し周波数:20 Hz
高調波発生オプション有(第二、第三、第四、第五高調波)

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シングルモード高エネルギーQ-スイッチナノ秒Nd:YAGレーザー ANL SLMシリーズ

光学部品のテストに最適なシングルモード高エネルギーQ-スイッチNd:YAGレーザー
最大エネルギー:10 J @1064 nm |パルス幅: 2 – 25 ns  (標準:2 ns)
繰り返し周波数:10 Hz | 高調波発生オプション有(第二、第三、第四高調波)

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マルチモード高エネルギーQ-スイッチNd:YAGレーザー ANL MMシリーズ

励起レーザーとして最適なマルチモード高エネルギーQ-スイッチNd:YAGレーザー
最大エネルギー:10 J @1064 nm |パルス幅:5 ns | 繰り返し周波数:10 Hz
高調波発生オプション有(第二、第三、第四高調波)

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ハイエナジーNd:Glassナノ秒レーザー ANL Nd:Glassシリーズ

各種励起光源、プラズマ物理学、衝撃物理学に最適
最大パルスエネルギー:160 J 1064 nm | パルス幅:(可変) 0.15 – 20 ns & 波形制御
オプション:高調波発生(第二、第三)、フロントエンド選択可

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高出力LD励起ナノ秒増幅システム ANL HPシリーズ

高繰り返し高エネルギーLD励起ナノ秒増幅システム
パルスエネルギー:2 J @100 Hz, 200 mJ @ 1 kHz1064 nm|パルス幅:5 ns
オプション:高調波発生(第二、第三高調波)、任意のパルス波形発生(1-50 ns

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パルス波形/幅任意制御高エネルギーNd:YAGレーザー ANL AWGシリーズ

OPCPA励起、レーザーピーニングに最適
最大パルスエネルギー:10 J 1064 nm | パルス幅:(可変) 1 – 20 ns & 波形制御
オプション:高調波発生(第二、第三)、パルス幅可変範囲拡張(0.15 – 500 ns

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高エネルギーフラッシュランプ励起ピコ秒増幅器 APL HEシリーズ

OPCPA、OPG、OPA励起に最適な増幅器
最大エネルギー:2.2 J1064 nm | パルス幅:90 ± 10 ps | 繰り返し周波数:10 Hz
オプション:高調波発生、パルス幅の仕様変更 (20 – 300 ps) 

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高繰り返しLD励起ピコ秒増幅器 APL HPシリーズ

様々な分光測定、リモートセンシングに最適な増幅器
最大繰り返し周波数:1 kHz | パルス幅:90±10 ps | 最大エネルギー:14mJ1064nm
オプション:高調波発生、パルス幅の仕様変更(20-300 ps)、繰り返し周波数2 kHz

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高パルスエネルギー色素レーザー LiopStar

LIF、フォトリシス、燃焼アプリケーションに最適
波長範囲 : 197 nm ~ 5 μm | 波長分解能 : <0.03 cm-1@570 nm
SHG、THG、DFMオプション有

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高繰返し色素レーザー LiopStar-HQ

最高100kHzの高繰返しに対応、燃焼アプリケーションに最適
波長範囲 : 430~900 nm | 波長分解能 : <0.06 cm-1@570 nm
高調波オプションあり

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