その他

ツェルニターナ型を採用した高スループット・高分解能の高性能分光器
焦点距離　20、35、52、75 cm　|　非点収差を抑えたイメージングモデルあり
グレーティング 最大4枚搭載可能　|　出射ポート　最大2

上下2段に異なるグレーティングを搭載した2つの独立したスペクトルチャンネルを持つ分光器
独立駆動の2段グレーティング　|　2つの独立したスペクトルチャンネル
幅広い波長域と高波長分解能の同時測定可能　|　出射ポート 2

高波長分解能・低迷光・高F値を誇る高性能ダブル分散分光器
焦点距離　2×500 mm　|　非点収差を抑えたイメージングモデルあり
グレーティング 最大4枚(2×2ペア)同時搭載可能　|　低迷光

2つの対物レンズを持つ水平対称構成でデザインされたイメージング分光器
焦点距離 約100 mm　|　非点収差・色収差を抑えたレンズ光学系を採用
高イメージング性能　|　高スループット F値　F/3.3

高分解能・高安定性に優れたシリコンセンサーを搭載したピエゾステージ
1軸：Ｚ〜500 (μm) 　|　Ｘ〜1500 (μm) 　|　Θ〜5、10ｍrad
クローズドループ制御　　|　対物レンズ装着型　|　ウェルプレート対応型

高分解能・高安定性に優れたシリコンセンサーを搭載したピエゾステージ
XYストローク：10×10 (μm) 〜 600×600 (μm) 　|　クローズドループ制御　
薄型モデル　|　大開口付きモデル　|　２軸チルトモデル

高分解能・高安定性に優れたシリコンセンサーを搭載したピエゾステージ
XYZストローク：30×30×５(μm) 〜 300×300×300 (μm)
クローズドループ制御　|　薄型モデル　|　大開口付きモデル

レーザー光の偏光状態を電圧印加で制御可能な電気光学結晶
対応中心波長　1064nm, 1030nm, 800nm　|　開口部　Φ2.5～7 mm
透過率　> 98％　|　コントラスト比　>1：500または> 1：1000

通過するレーザー光の偏光状態を電圧印加で制御可能な電気光学結晶
対応中心波長　515～1064nm、6種　|　開口部　～Φ18 mm
透過率　> 97％　|　コントラスト比　>1：1000または> 1：2000

通過するレーザー光の偏光状態を電圧印加で制御可能な電気光学結晶
対応中心波長　1064nm　|　開口部　Φ3.5～7.5 mm
透過率　> 98％　|　コントラスト比　>1：500

HVパルス振幅 最大9.8 kV | HVパルス幅 最小30 ns
繰返しレート 最大10 kHz

HVパルス振幅 最大9.8 kV | HVパルス幅 最小30 ns
繰返しレート 最大10 kHz | OEM用

HVパルス振幅 最大3.1 kV | HVパルス幅 最小1 ns
繰返し周波数 最大6 MHz

HVパルス振幅 最大 7 kV | HVパルス幅 最小100 ns
繰返し周波数 最大1000kHz

HVパルス振幅 最大 3.6 kV | HVパルス幅 最小100 ns
繰返し周波数 最大2 MHz

HVパルス振幅 最大 3.6 kV | HVパルス幅 最小15 ns
繰返し周波数 最大1 MHz

レーザーポインターによる攻撃から目を護るための専用保護メガネ
532nmと1064nmの2波長のレーザーをブロック　|　反射率　> 99%
UVA、UVBも併せてブロック　|　色識別を考えた光学設計

用途に合わせて選べる フィルターモデル・AOモデル
波長範囲 : 400~840 nm(VLF) 430~1450 nm +白色出力(AOTF-Pro)
波長範囲 : 400~650 nm or 650~1100 nm or 1100~2000 nm (AOTF)

安定性・信頼性に定評のある、170TPI精密ネジ付ミラーマウント
高精細170TPIの精密ネジ　|　対応サイズ　0.5～12インチ
豊富なカラー　8種　|　ネジ　2軸、3軸選択可能

時間分解超高速分光やOPA、OPGポンピングに最適
中心波長 : 1033 nm /1030 nm | パルス幅 : < 270 fs  | 出力 : ～20W
高調波発生モデルあり