装置開発

通過するレーザー光の偏光状態を電圧印加で制御可能な電気光学結晶
対応中心波長　515～1064nm、6種　|　開口部　～Φ18 mm
透過率　> 97％　|　コントラスト比　>1：1000または> 1：2000

通過するレーザー光の偏光状態を電圧印加で制御可能な電気光学結晶
対応中心波長　1064nm　|　開口部　Φ3.5～7.5 mm
透過率　> 98％　|　コントラスト比　>1：500

HVパルス振幅 最大9.8 kV | HVパルス幅 最小30 ns
繰返しレート 最大10 kHz

HVパルス振幅 最大9.8 kV | HVパルス幅 最小30 ns
繰返しレート 最大10 kHz | OEM用

HVパルス振幅 最大3.1 kV | HVパルス幅 最小1 ns
繰返し周波数 最大6 MHz

HVパルス振幅 最大 7 kV | HVパルス幅 最小100 ns
繰返し周波数 最大1000kHz

HVパルス振幅 最大 3.6 kV | HVパルス幅 最小100 ns
繰返し周波数 最大2 MHz

HVパルス振幅 最大 3.6 kV | HVパルス幅 最小15 ns
繰返し周波数 最大1 MHz

時間分解超高速分光やOPA、OPGポンピングに最適
中心波長 : 1033 nm /1030 nm | パルス幅 : < 270 fs  | 出力 : ～20W
高調波発生モデルあり

超音波機器開発用の柔軟性のある多機能プラットフォーム
送信チャンネル　64 ～ 256 ch　|　受信チャンネル　32 ～ 256 ch
対応周波数　50 kHz ～ 50 MHz　|　外部同期可能

微細加工のための完璧で多才なフェムト秒レーザー
平均出力：30W @ 1030nm, 11W @ 515 nm | パルス幅(可変)：350 fs ～ 1 ps
エネルギー：> 90 μJ @ 1030nm, > 50 μJ @ 515 nm | GHz バーストオプション

レーザー加工やバイオイメージングに最適なフェムト秒レーザー
波長：1030nm | エネルギー：3 μJ/パルス, 10 μJ/バースト | 繰返周波数：最大10 MHz
パルス幅 ： (可変) 300 fs ～ 5 ps | SHGオプション : 1.2 μJ/パルス, 5 μJ/バースト

固体Nd:YAG増幅器用シード光源
エネルギー：> 50 nJ @ 繰り返し周波数 < 1 MHz | パルス幅 : サブ10 ps
繰り返し周波数：25 kHz – 50 MHz | フーリエ変換限界に近いスペクトルバンド幅